مكافحة-مشبك رقاقة نظرة خاطفة ثابتة

Peek Wefer Holder ، أداة محمولة لتفتيش الرقاقات. لا يحتوي Peek على عناصر الهالوجين ولا يلوث رقائق أشباه الموصلات.

في قطاع تصنيع الدوائر المتكامل العالمي ، أصبحت القدرة الإنتاجية الضيقة هي القاعدة ، مما أدى إلى زيادة كبيرة في استثمار الصين في الدائرة المتكاملة-الحقول ذات الصلة في العامين الماضيين. لم تقود هذه الطفرة الاستثمارية فقط التطوير القوي لمعدات أجهزة أشباه الموصلات والمكونات الإلكترونية والإلكترونية-صناعات تصنيع المواد المحددة ، ولكن أيضا دفعت زيادة حادة في الطلب على ارتفاع-مواد الأداء مثل نظرة خاطفة.

مواد نظرة خاطفة ، مع ارتفاعها المتميز-أظهرت مقاومة درجة الحرارة ، ومقاومة التآكل ، والاستقرار الأبعاد ، ومقاومة التآكل الكيميائي وسهولة المعالجة ، مزايا لا مثيل لها في عملية تصنيع أشباه الموصلات. خاصة في مجال تثبيت الرقاقة ، أصبحت مشابك Wefer ، بأدائها الفريد ، أدوات مثالية لا غنى عنها في تصنيع أشباه الموصلات. إنه لا يضمن فقط سلامة الرقاقة ، ولكن أيضًا يحسن بشكل كبير كفاءة الإنتاج والعائد. لذلك ، في صناعة أشباه الموصلات ، تتلقى مشابك Wefer Peek اهتمامًا متزايدًا وتطبيقًا واسعًا.

المزايا الأساسية لمشابك رقائق نظرة خاطفة هي كما يلي:

تلوث-التقسيم الحرة

يتكون مشبك Wefer Wefer من مواد خام للجسيمات المعدلة ، والتي لها نقاء عالية للغاية ولا تحتوي على عناصر نزيهة تقريبًا قد تلوث رقائق السيليكون ، مما يضمن السلامة المطلقة أثناء عملية التثبيت.

مكافحة-حماية ثابتة

تعرض نظرة خاطفة على مشابك الويفر المعلقة لمكافحة-خصائص ثابتة ، مع مقاومة السطح تصل إلى 10^5-10^10Ω، وجزء تشاك حتى يصل إلى 10^7-10^8Ω. هذا يمنع بشكل فعال الأضرار التي لحقت رقائق السيليكون الناتجة عن تصريف ثابت فوري ويوفر حماية شاملة للرقائق.

عالي-استقرار درجة الحرارة

يمكن استخدام مشابك رقائق نظرة خاطفة لفترة طويلة في ارتفاع-بيئة درجة حرارة 260 ℃ ، مع الحفاظ على القوة العالية والاستقرار الأبعاد ومعامل صغير للتوسع الخطي. لديها مقاومة ممتازة لارتداء الانزلاق وارتداء القلق. عند التقاط رقائق ورسائل من السيليكون ، لن يتسبب ذلك في خدوش أو بقايا على السطح ، وبالتالي ضمان نظافة السطح للرقائق وعرقات السيليكون.